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| 型号︰ | QX-1000 |
| 品牌︰ | QIXING |
| 原产地︰ | 中国 |
| 单价︰ | - |
| 最少订量︰ | 1 件 |
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| 中频磁控溅射镀膜技术是磁控技术另一新里程碑，作为目前国内外最新的中频孪生靶磁控溅射反应技术，在近几年得到了迅猛的发展，除了在制备金属膜时具有较高的稳定性外，在沉积氮化物、氧化物等介质膜时，解决了过去直流磁控溅射中弧光放电和阳极消失等问题，并具溅射速率快等优点，它能够在长时间内获得较高的沉积速率和维持稳定的镀膜状态。适合镀制铟锡合金（ITO）、氧化铝（AL2O3）、二氧化硅（SiO2）、氧化钛（TiO2）、氮化硅（Si3N4）等，配置多个靶及膜厚仪可镀制多种多层膜。 |
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