|
|
|
|
|
|
| 型號︰ | QX-1000 |
| 品牌︰ | QIXING |
| 原產地︰ | 中國 |
| 單價︰ | - |
| 最少訂量︰ | 1 件 |
|
|
|
|
|
| 中頻磁控濺射鍍膜技朮是磁控技術另一新里程碑，作為目前國內外最新的中頻孿生靶磁控濺射反應技術，在近幾年得到了迅猛的發展，除了在制備金屬膜時具有較高的穩定性外，在沉積氮化物、氧化物等介質膜時，解決了過去直流磁控濺射中弧光放電和陽極消失等問題，並具濺射速率快等優點，它能夠在長時間內獲得較高的沉積速率和維持穩定的鍍膜狀態。適合鍍制銦錫合金（ITO）、氧化鋁（AL2O3）、二氧化硅（SiO2）、氧化鈦（TiO2）、氮化硅（Si3N4）等，配置多個靶及膜厚儀可鍍制多種多層膜。 |
|
|
|
| 選擇圖片 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
